DRK8090 Optical profiler

Product details

Due to the high measurement precision, and with a characteristic three-dimensional 

noncontact measurement, and the use of computer control and rapid analysis, 

calculate the measurement results, the instrument is suitable for all levels of test,

 measurement research unit of measurement chamber mining industry, precision machine shop, 

but also for institutions of higher learning and scientific research units.

The main technical parameters.

Uneven surface microstructure depth measurement range.

When on a continuous surface, there is no greater than the height mutant

 1/4-wavelength between adjacent two pixels: 1000 -1nm

Adjacent hypermutation containing greater than 1/4 wavelength between two pixels:

 130 -1nm

Measurement repeatability:δRa ≤0.5nm

Lens magnification: 40X

NA: Φ 65

Working distance: 0.5mm

Visual Field Instrument: Φ0.25mm

Image pick-up: 0.13 × 0.13mm

Visual Instrument magnification: 

500 ×

Image pick-up (computer screen viewing) a 

2500 ×

Measuring receiver array: 

1000X1000

Pixel size: 5.2 × 5.2μm

Measuring time sampling (scan) Time: 1S

Instrument standard mirror reflectivity (high): ~ 50%

Reflectance (low): ~ 4%

Lighting: incandescent 6V 5W

Green interference filter wavelength: λ ≒ 530nm

Half-width λ ≒ 10nm

Main microscope lift: 110 mm

Table lift: 5 mm

X, Ah direction range: ~ 10 mm

Table rotation range of motion: 360 °

Workbench are oblique range: ± 6 °

Computer systems: P4, 2 .8G above, 1G memory than 17-inch flat screen monitor